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光刻机清洗：光刻机清洗是指在半导体制造过程中，对光刻机内部及关键部件进行清洁处理的一项关键工艺。光刻机是半导体生产中的核心设备，用于将微细的电路图案转移到硅片上。随着生产进行，光刻机内部会逐渐积累各种污染物，如颗粒、有机物、金属离子等，这些污染物会严重影响光刻的精度和良率。因此，定期对光刻机进行专业清洗，以确保其处于最佳工作状态，是半导体生产不可或缺的一环。 在股票市场中，光刻机清洗相关的企业可能会因半导体行业的蓬勃发展而受到投资者关注。这些企业的业绩往往与半导体制造厂的资本支出、产能扩充计划等因素密切相关。投资者在分析这类股票时，需要密切关注半导体行业的市场动态和技术发展趋势。