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股市情报:上述文章报告出品方/作者:集邦Display;仅供参考,投资者应独立决策并承担投资风险。

清溢光电佛山项目加速推进,90-40nm光罩量产在即

时间:2026-07-20 12:39
上述文章报告出品方/作者:集邦Display;仅供参考,投资者应独立决策并承担投资风险。

近日,清溢光电在投资者问答活动上,就掩膜版的产品属性、供应链布局、行业竞争格局及原材料价格波动等核心问题作出回应。


公司表示,掩膜版兼具模具与耗材双重属性,其使用寿命受下游产品品类数量、制程工艺升级及技术迭代等因素影响,终端电子产品的快速更新换代促使下游企业持续采购定制新掩膜版。


在供应链方面,公司平板显示用光刻机主要从瑞典Mycronic、德国海德堡仪器等行业头部厂商采购,半导体相关设备则来自日本、韩国、德国及瑞典,主要原材料掩膜版基板目前仍以日本、韩国等境外供应商为主。


不过,随着国内掩膜版上游产业链逐步成熟,国产化替代进程持续加快,公司将持续导入本土供应链资源,优化采购成本并提升供应链抗风险能力。


关于行业竞争格局,公司认为未来竞争重心将逐步由中低端传统掩膜版市场向高技术、高附加值的高端掩膜版市场转移,设备壁垒与人才壁垒将成为核心分水岭。为此,公司制定了"平板显示掩膜版 半导体芯片掩膜版"互促共进的"双翼"战略。


在产能建设方面,清溢光电持续推进佛山生产基地的建设。该基地是清溢光电布局高端掩膜版、实现产能升级、推进国产化替代的核心战略项目,总投资35亿元,包含高精度平板显示掩膜版生产基地与高端半导体掩膜版生产基地(佛山清溢微)两大板块,其中前者投资20亿元,后者投资15亿元。


目前,佛山清溢光电一期基地已于2025年11月正式举办投产仪式,正处于产能爬坡阶段。


而佛山清溢微一期也即将投入使用。佛山清溢微一期新引进的全套高端生产设备已全部到位并投入运行,将有效支撑公司切入高端半导体掩膜版市场,匹配下游先进制程芯片制造领域的产品需求。


清溢光电正积极推进90-40nm制程节点半导体光罩的量产规划,佛山清溢微一期投产将为这一技术目标的实现提供关键产能保障。此前,清溢光电规划公司在2026年实现90-40nm半导体掩膜版量产,2027-2028年突破28nm节点。


对于原材料价格问题,清溢光电则表示虽价格波动会对生产成本产生一定影响,但整体影响可控。一方面,公司与核心上游供应商保持长期稳定的战略合作关系,采购规模稳定且议价能力较强;另一方面,公司通过积极升级产品结构,增加高附加值产品占比,有效对冲成本压力

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