光刻机板块也是赛道反复梳理的一个方向，近期国产光刻机取得了重大进展。根据英国金融时报，中芯国际正在测试由上海初创企业宇量昇制造的浸没式DUV光刻机。技术路线与ASML主流设备相似，核心采用193nm光源配合浸没式系统，通过高折射率液体将等效波长压缩至134nm，再采用"多重曝光技术"生产7纳米芯片。

宇量昇成立于2022年，由国资控股，聚焦光刻曝光系统研发，获政府与科研机构重点支持。其设备已实现核心部件部分国产化，如光学镜头由茂莱光学、波长光电供应，双工件台依赖华卓精科技术，但仍有少量零部件需进口，正推进全链条自主化。

在极紫外（EUV）光刻机受出口管制的背景下，浸没式DUV成为先进制程的 “替代方案”。其通过3-4次多重曝光，可将分辨率提升至7nm级别，虽比EUV流程复杂、成本偏高，但能覆盖AI芯片、车载芯片等80%以上的市场需求。

若测试成功，中芯国际将摆脱对ASML旧款DUV的依赖，预计每年节省数亿美元采购成本，同时在7nm/5nm制程上掌握成本主导权——目前其用ASML设备生产7nm芯片的成本比台积电高20%，国产设备有望缩小这一差距。

此外，上海微电子（SMEE）的SSA600/20型28nm沉浸式DUV光刻机已完成客户验证，预计2025年正式量产，该设备分辨率达等效110nm可覆盖成熟制程核心需求。

接下来梳理光刻机的4家核心部件公司，但需声明：本内容根据网络公开资料，仅对产业和相关公司经营情况进行科普梳，不构成任何建议。

第一家，茂来光学 

国内领先的工业级精密光学供应商，下游应用非常广，并在光刻机的光源和物镜均有布局。

业务结构上，分精密光学器件、光学镜头和光学系统三大类，营收分别占比44%、27%和27%。

精密光学器，是指对光学材料进行各类工序后得到的单个器件；光学镜头是以光学器件为基础，再根据预设功能进行装配的光学组件；而光学系统包括模组和检测设备。

下游包括生命科学、半导体、AR/VR检测、无人驾驶、航空航天、生物识别六大类，客户都是行业龙头。其中来自半导体业务增长较快，占比接近五成。

光刻机方面，在光源和物镜系统均有布局。光源相关的照明系统，其高精度光学器件加工与检测技术研究已进入工艺设计阶段，技术国内领先。物镜系统领域，实现了光刻机投影物镜、匀光模块及位移测量棱镜组件的国产化供应，曝光物镜超精密光学元件加工技术已实现产业化，产品应用于365nm的i线光刻机中，能实现亚微米量级的曝光线宽。

业绩方面，除了半导体外的传统业务受经济周期影响较大，整体上还算稳定。

今年中报，扣非净早同比增长1.56倍。

第二家，福晶科技 

全球激光晶体龙头，最早于1990年由中科院福建物质结构研究所成立。目前是全球最大的LBO、BBO晶体供应商，全球市占率接近80%。并能为EUV光源提供非线性光学晶体、透镜等核心元件。

业务结构上，晶体元器件、精密光学元件、激光器件、激光晶体元器件四大块，营收分别占比35%、27%、19%和18%。

产品主要用于固体激光器、光纤激光器的制造。部分精密光学产品应用于光通讯、AR、激光雷达和科研等领域。产品较为高端，盈利能力较强。毛利率超50%，净利率超20%。

光刻机领域，曾通过欧洲代理向ASML提供极其少量光学元件。控股子公司福创光电有开展衍射光学元件研究和生产，其生产的LBO、BBO等非线性光学晶体可用于激光器中，通过非线性光学过程对激光波长进行变频，产生适合光刻的特定波长光源，为光刻机光源系统提供支持。

另外子公司至期光子研发的纳米级超精密光学产品，属于半导体和精密科学仪器领域的核心技术，其高精度物镜与成像镜组可能为光刻机物镜系统的研发，提供一定的技术支持和产品配套。

业绩方面，以技术为主导的国企，经营风格稳健，净利较为稳定。

今年中报，扣非净利基本与去年持平。

第三家，汇成真空

国内领先的真空镀膜设备厂商，能为不同行业客户提供定制化、专业化的真空镀膜设备及工艺解决方案。

业务结构上，真空镀膜设备、配件及耗材、以及技术服务营收分别占比74%、20%和5%。真空镀膜设备是指通过真空环境，利用磁控溅射、电子束蒸发等技术，在平板玻璃、汽车零部件、半导体芯片等基材表面镀上金属膜、光学膜等各种膜层的设备。它能明显提升产品的光学性能、耐磨性、防污性等。

公司PVD真空镀膜设备，涵盖真空蒸发镀膜、真空磁控溅射镀膜和真空离子镀膜三种主流技术，且能实现多种技术组合，满足客户定制化需求。下游包括手机、摄像头、屏幕显示、汽车配件、航空玻璃、磁性材料、半导体电子传感器、光刻掩膜版等领域。客户涵盖苹果产业链中的捷普、富士康等重要厂商，汽车方面还有比亚迪、麦格纳等客户，以及国内的科研院所。

真空镀膜市场的竞争者主要为跨国企业，如美国应用材料、德国莱宝等，公司产品与海外进口产品在主要性能、参数上基本相当，具备较强竞争力。

半导体是下游重要的应用领域，其真空镀膜设备实现从i线到EUV级别的覆盖，采用“离子束抛光 镀膜”双技术路线，成为国内三大光刻机厂商的核心供应商，单套价值可能达数千万，2025年计划配套EUV光刻机进行验证。

此外，光刻掩膜版作为光刻机曝光环节的关键耗材，公司镀膜技术能够为光刻掩膜版的生产提供支持。

业绩方面，历史上一直盈利，且相对稳定。

今年中报，扣非净利同比下降12%

第四家，奥普光电 

中科院光机所唯一控股上市平台，通过将光机所研究成果进行产业化，已逐步发展成光机电一体化企业。大股东是中科院长春光机所，直接持有42.4%的股份。

业务结构上，分三大块。复合材料占比39%。主要就是碳纤维，子公司长光宇航是国内航天复材领域重要供应商，通过对高性能碳纤维的加工成型，为航空航天载荷、导弹火箭等提供结构件及功能件。

光电测控仪器占比34%，是利用光和电的原理来测量和控制各种物理量的工具，这块是传统业务比较成熟。

光栅传感器虽占比只22%，但毛利率水平接近40%。是一种能测量旋转角度和线性位移的高精度传感器，可以用于数控机床的位置和运动控制，以及机器人的定位和轨迹跟踪，具有较大的国产替代空间。

光刻机方面，公司本身并不生产光刻机相关设备，但实控人长春光机所研发了光刻机的曝光系统。曝光系统是光刻机中负责将掩模上的图案，通过光线投影到晶圆上的关键部分。它主要由光源、照明系统、掩模版、投影物镜系统、对准系统等多个部分组成。也就是说曝光系统包含了光源和物镜系统两大核心。

长春光机所在光刻机曝光系统上取得诸多重要进展。2002年，研制出国内第一套EUV光刻原理装置，实现原理性贯通。2016年，成功研制两镜EUV光刻物镜系统。其90纳米光刻机曝光系统，是长春光机所联合其他单位，在国家专项资金的支持下开展的研发项目，2017年曝光光学系统在整机环境下通过验收测试。

奥普光电作为长春光机所下唯一的上市平台，让市场浮想联翩。但也曾多次表示，目前并没有参与光刻机的研发工作，主营跟光刻机曝光系统没有直接关系。

业绩方面，整体上比较稳定，连续多年维持相对平稳。

今年中报，扣非净利下降7%。

总  结

茂莱光学是精密光学龙头，为光刻机提供光源器件与物镜组件，供应宇量昇等厂商。福晶科技全球激光晶体市占近 80%，其晶体支撑光刻机光源系统，曾供货ASML。汇成真空的镀膜设备覆盖多光刻级别，是国内光刻机厂商核心供应商。奥普光电背靠长光所，后者研发光刻机曝光系统，公司为技术转化平台。