这家半导体设备制造龙头的研究人员指出，透过提升功率，可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000 瓦，预计到2030 年极紫外光(EUV) 光刻设备每小时的晶圆产量可增加50%。

ASML技术长Michael Purvis 说：「这并非噱头，也不是那种只能维持极短时间演示的把戏，这是一个能在满足客户所有实际需求的情况下，稳定产生1000 瓦功率的系统。」

ASML是全球唯一能制造极紫外光(EUV) 光刻设备的公司，该设备是台积电、英特尔等晶圆制造商生产先进运算芯片的重要工具。