近期，存储器大厂美光（Micron）宣布正在交货全球首款采用10纳米级1γ制程技术的LPDDR5X存储器产品。 这属于第六代10纳米级1γ（1-gamma）DRAM内存产品，是美光首款采用EUV光刻机技术打造的移动解决方案，进一步获得业界领先的容量密度优势。

美光还利用包括下一代高K金属栅极技术在内的CMOS技术，提升了晶体管性能，达到更高的速率、更优化的设计，以及更小的芯片尺寸，为1γ DRAM节点制程技术带来功耗降低和性能扩展的双重优势。 在此情况下，美光也进一步公布了采用1γ节点制成技术生产的LPDDR5X存储器情况。

根据Tom's Hardware的报道，美光总裁兼执行长Sanjay Mehrotra在2025财年第三季财报会议上，介绍了采用1γ节点制程技术的LPDDR5X存储器情况，其表示新产品性能非常出色，在良率的提升速度超过了第五代10纳米级1β（1-beta）DRAM节点制程技术的纪录之后，预计本季内将完成几个关键的产品里程碑。

相较于1β DRAM节点制程技术生产的产品，新一代1γ DRAM节点制程的产品有望将DRAM功耗降低20%，同时性能提升15%，另外位密度提高30%，带来非常显著的性能提升。 一旦1γ DRAM节点制程技术的产品良率达到1β相近的水平，转化到生产上，预计将能进一步的大幅降低生产成本。

除了LPDDR5X以外，美光在更早之前还将1γ DRAM节点制程技术用于DDR5。 Sanjay Mehrotra强调，美光将在整个DRAM产品线中导入1γ DRAM节点制程技术，未来还会用于GDDR7和针对数据中心的产品中。（文章来源：科技新报）