量检测设备是半导体前道制造中保障良率与工艺稳定的核心环节。 集成电路制造涉及数百道工序，质量检测设备贯穿晶圆制造全过程，承担发现问题、量化偏差与维持工艺稳定的核心职能。按技术路线划分，前道量检测设备主要包括光学和电子束两大路线。

CD-SEM是前道量检测国产替代的新路线，从晶圆到光罩覆盖前道全环节。电子束量测设备主要分为四类，其中CD-SEM是前道制造中用量最大、覆盖面最广的核心品类。随着制程节点向7nm及以下演进，传统光学量测在分辨率和局部结构识别上的局限性日益凸显，CD-SEM凭借亚纳米级电子束成像能力，成为光刻-刻蚀闭环控制中不可替代的尺寸标尺。其核心价值在于稳定、低损伤、高重复性的在线批量量测能力。

CD-SEM市场国产替代进入加速验证期。 国内市场方面，在中国半导体自主可控战略驱动下，晶圆厂扩产与产线国产化率要求共同催化需求，国内量检测设备整体市场持续扩容。

半导体制造崛起，CD-SEM战略地位日益凸显，国产替代正处于加速期。伴随国内晶圆厂持续扩产及存量产线国产化率提升需求，国产CD-SEM设备有望批量导入产线，将直接拉动上游核心部件的国产化配套需求，重点推荐半导体设备领域。半导体设备环节中，CD-SEM整机及其核心部件的突破将带动量检测设备产业链价值重估，核心设备及零部件企业有望受益于国产替代进程加速，建议关注产业链核心受益标的