报道指出，美方此举目的在阻碍中国在人工智能（AI）、超级计算机及军事技术的发展。在此之前，荷兰政府在美国施压下，已禁止对中国出口最先进的极紫外光（EUV）光刻设备，这使得荷兰光刻机公司自2019年起未向中国出货过任何EUV设备，并限制部分先进DUV光刻机的销售。

然而，美国国会正审议跨党派的《硬件技术管制多边协调法案》（MATCH Act），试图将施压转化为直接胁迫，强制盟国与美国出口管制同步。一旦通过，荷兰公司不仅无法再向中国销售DUV光刻机设备，甚至连已交付设备的维护与保养也将被禁止。若荷兰拒绝执行，美国将对其实施制裁。由于荷兰光刻机公司高度依赖美国供应链，美方曾威胁中断供应，这成为迫使荷兰政府妥协的关键。

然而，荷兰官员正于华盛顿激烈游说试图废除该条款，但因法案获得美国民主与共和两党支持，且将并入几乎必定通过的国防预算案，挽回机会十分渺茫。讽刺的是，该法案对美国本土企业存有宽限空间。在最终版《MATCH法案》中，限制美企向中国销售先进蚀刻机的广泛禁令已被删除，但DUV禁令却依然保留，显现出政策上的双重标准。

分析指出，若美方禁令未立即实施，对中国未来的DUV装机影响有限。但若禁令迅速落实，短期内仍将造成不小的过渡挑战。这场围绕光刻技术的拉锯战，将决定未来全球半导体产业链的全新版图。（科技新报）